CMP工藝磨漿專用過濾產(chǎn)品

在半導(dǎo)體及元件生產(chǎn)領(lǐng)域，使用液體狀的氧化物磨漿來打磨硅片，這些磨漿的粒度控制對于硅片絕緣層，鎢和銅的金屬層的表面質(zhì)量有至關(guān)重要的影響，這要求過濾材料的粒度控制能力恰到好處。

我們提供的專用分級熔噴濾芯能夠提供一種相對精確的過濾精度范圍，在對以氧化鋁和二氧化硅為材料的磨漿進(jìn)行過濾的時候，既能保持其原有的粒度范圍確保拋光質(zhì)量，又能夠延長過濾的時間，達(dá)到節(jié)約的目的。

我們提供多種級別的分級過濾芯來適應(yīng)在CPM工藝?yán)锬{的不同應(yīng)用點，比如循環(huán)過濾、布流輸送回路和使用點的過濾。